用于有機電子生產(chǎn)的新型PVPD™平臺

愛思強股份有限公司今（21）日宣布，向一亞洲重要客戶交付一套基于愛思強專有的近耦合噴淋頭(CCS)®技術(shù)的PRODOS Gen3.5高分子聚合氣相沉積(PVPD™)系統(tǒng)?？蛻魧⒗迷撋a(chǎn)型設(shè)備的有機高分子薄膜沉積能力，進行新型柔性電子設(shè)備的生產(chǎn)。愛思強的當?shù)胤請F隊將于未來數(shù)周內(nèi)，在該客戶的廠房中安裝及調(diào)試此新沉積系統(tǒng)。

愛思強業(yè)務發(fā)展總監(jiān)柯永明（Juergen Kreis）說：“在我們前不久推出新型PRODOS-200 研發(fā)平臺的基礎(chǔ)上，這套全新PRODOS Gen3.5系統(tǒng)，是專門應客戶在Gen3.5基板上(基板尺寸650x750mm2)的生產(chǎn)要求而設(shè)計的。研發(fā)平臺的配置較為靈活，用在200x200 mm²的基板上進行新工藝開發(fā)，從而實現(xiàn)PRODOS Gen3.5在工業(yè)生產(chǎn)的所要求的尺寸上進行高分子聚合特殊工藝。 系統(tǒng)結(jié)合了載氣增強沉積以及近耦合噴淋頭®技術(shù)，它充分說明了PVPD™優(yōu)越的可擴展性。”

愛思強首席運營官Bernd Schulte博士補充說：“很多柔性電子產(chǎn)品的主要企業(yè)已經(jīng)選擇安裝愛思強PVPD™系統(tǒng)，以滿足其高標準的有機底板生產(chǎn)工藝需求，這次愛思強的關(guān)鍵技術(shù)能夠獲得這間知名企業(yè)的青睞，令我們倍覺榮幸。柔性電子行業(yè)目前仍然處于起步階段，未來的前景非常廣闊，并為我們的客戶提供開發(fā)新應用的潛力，例如柔性的平板顯示屏，將具有輕盈、耐用、低能耗、色彩鮮明且閱讀舒適等優(yōu)點。”

愛思強高分子聚合氣相沉積(PVPD™)技術(shù)是一個控制沉積并在原位生成聚合物薄膜的氣相沉積平臺。

與通?；谌芤旱膫鹘y(tǒng)高分子聚合工藝相比，PVPD™工藝是一種“全干燥”的沉積工藝，擁有眾多獨特優(yōu)勢，可控制薄膜層屬性，能達到很高的膜層外形一致性，可在沉積過程中改變膜層組分（例如，可調(diào)控的復合沉積）及提升生產(chǎn)流程效率，借助此PVPD設(shè)備可大大推動薄膜制造工藝的發(fā)展。