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日立用于白色LED磊晶的GaN范本全新

日立電線株式會社宣布成功開發(fā)出在藍寶石基板上生長的高品質(zhì)氮化鎵(GaN)單晶薄膜的GaN范本全新量產(chǎn)技術(shù),并已開始銷售。

透過將該產(chǎn)品用作“白色LED磊晶”的底層基板,可以大幅提高白色LED磊晶的生產(chǎn)效率及LED特性。因此,對于業(yè)界競爭十分激烈的白色LED制造商而言,該產(chǎn)品可望成為有效提升產(chǎn)業(yè)地位的解決方案。

近年來,白色LED以其節(jié)能、壽命長等顯著優(yōu)點,在以液晶面板背燈為代表的照明產(chǎn)品的需求正在急劇擴大。白色LED磊晶的基本結(jié)構(gòu)是,先在藍寶石基板上生長出一層10μm厚的n型GaN層,接著生長一層1μm厚的超薄活性層和p型GaN層。在一般的生產(chǎn)工序中,這些晶體層全部采用MOVPE法實現(xiàn)生長。MOVPE法雖然適用于需要原子級膜厚控制的活性層的生長,但為了生長出所需厚度的優(yōu)質(zhì)n型GaN層,則需要花費較長的時間。因此,白色LED磊晶的生長次數(shù)每天最多1~2次,如何實現(xiàn)高效率的生產(chǎn)方式,一直是個待解決的難題。

為了解決這一課題,該公司開發(fā)出了采用MOVPE法生長的底層基板所使用的GaN范本。GaN范本采用在藍寶石基板上生長n型GaN層的結(jié)構(gòu)。透過采用GaN范本,LED制造商將不再需要n型GaN緩沖層的生長制程,生長所需要的時間也將降至原來的一半左右。另外,采用該公司生產(chǎn)的GaN范本,還可以同時實現(xiàn)低阻化和高結(jié)晶性,也同樣適用于需要較大電流的大功率LED。

之前,該公司曾開發(fā)出用于藍紫色雷射器等的單晶GaN自支撐基板,并為了實現(xiàn)該產(chǎn)品的生產(chǎn),促進了采用HVPE法的獨有結(jié)晶生長技術(shù)的發(fā)展。這次,該公司憑借此項獨有的生長技術(shù),全新開發(fā)出高品質(zhì)GaN范本的高效率生產(chǎn)技術(shù)及設備,建構(gòu)了完備的量產(chǎn)體制。

GaN范本的主要特點:?采用在GaN自支撐基板的開發(fā)過程中累積的生長技術(shù),實現(xiàn)了高結(jié)晶性和高表面品質(zhì)。?具備同樣適用于大功率芯片鍵合型LED等的低電阻n型GaN緩沖層。?支援表面平坦的藍寶石基板及各種PSS。?支援直徑2~6英寸芯片(8英寸芯片的開發(fā)正在計畫中)。除以前開發(fā)出的GaN基板和GaN磊晶外,本公司這次又新增了GaN范本產(chǎn)品,今后將進一步強化和擴展GaN產(chǎn)品線,以提供可滿足客戶廣泛需求的化合物半導體材料。同時,今年的5月13~16日期間,公司將參加在美國紐奧良市舉辦的CS Mantech,進行有關(guān)GaN范本的說明展示。

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