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伯思達(dá)熱干蝕刻技術(shù)再生磊芯片,降低AlN、AlGaN、GaN磊芯片報(bào)廢率, 提升成本效率

面對(duì)LED終端市場(chǎng)對(duì)于產(chǎn)品要求逐漸嚴(yán)苛,國(guó)內(nèi)優(yōu)良代理商伯威科技,負(fù)責(zé)人陳威智在LED業(yè)界十五年經(jīng)驗(yàn),累積國(guó)內(nèi)外深厚人脈,洞燭先機(jī)于2014年與韓國(guó)企業(yè)TS Drychemical合資成立伯思達(dá)光電,引進(jìn)獨(dú)特?zé)岣晌g刻技術(shù),為各大磊晶廠(chǎng)處理磊晶報(bào)廢片,將GaN / AlGaN / AlN層完全去除,還原成圖案化藍(lán)寶石基板(PSS),在此艱困產(chǎn)業(yè)環(huán)境中,提供各磊晶廠(chǎng)最有效的降低成本方式,勢(shì)必在下一階段掀起另一波的產(chǎn)業(yè)革命!
 
熱干蝕技術(shù)介紹:透過(guò)熱干蝕技術(shù)處理后的PSS產(chǎn)品和新買(mǎi)的PSS,質(zhì)量規(guī)格相當(dāng),伯思達(dá)光電于 2015年通過(guò)晶電集團(tuán)等各大磊晶廠(chǎng)認(rèn)證通過(guò)成為合格供貨商,定期處理各客戶(hù)廠(chǎng)內(nèi)的報(bào)廢磊芯片。
熱干蝕再生技術(shù)質(zhì)量
  1. 干蝕刻與物理性研磨再生法不同,主要是將磊芯片上的GaN與AlN去除,因此Wafer 的厚度不會(huì)減少,PSS仍可正常使用為最大的優(yōu)點(diǎn)
  2. 代工服務(wù)種類(lèi):1. 報(bào)廢磊芯片再生 (可提供2吋、4吋、6吋服務(wù))  2. 各MOCVD設(shè)備上石英原件清洗 3. 各MOCVD設(shè)備上石墨盤(pán)(SIC)等零部件清洗。
  3. 磊芯片(GaN、AlGaN、AlN)再生的種類(lèi):還原成各式藍(lán)寶石基板(DPSS/ WPSS/ NPSS/Plane等),相對(duì)于市場(chǎng)價(jià)格,具有相當(dāng)優(yōu)良的競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)。
目前伯思達(dá)可以處理的產(chǎn)能(CAPA)、每月2吋TIE產(chǎn)能約計(jì)180,000片,若換算為4吋產(chǎn)能,約計(jì)28,000片。
目前磊芯片回收(Wafer Recycle) 事業(yè)逐漸成熟,鑒于韓廠(chǎng)TS-Drychemical已穩(wěn)定在韓國(guó)如三星及LG等大廠(chǎng)定期作MOCVD機(jī)臺(tái)上的石英及石墨盤(pán)零部件作清洗服務(wù),伯思達(dá)下一步將提供服務(wù)為臺(tái)灣地區(qū)及中國(guó)大陸市場(chǎng)上的磊晶廠(chǎng)作零部件回收清洗。
  1. 石英部件清洗,傳統(tǒng)采用濕蝕刻及噴砂清洗,然而清洗后的質(zhì)量會(huì)對(duì)原耗材造成傷害并降低了使用壽命。伯思達(dá)采用熱干蝕技術(shù),維持石英部件的質(zhì)量,對(duì)母材的傷害最少,進(jìn)而延長(zhǎng)了耗材的使用壽命。

同樣的石墨盤(pán)(SiC)清洗,仍采用熱干蝕技術(shù),對(duì)于SiC鍍膜與斷面,證實(shí)不會(huì)對(duì)包膜產(chǎn)生損傷,對(duì)母材的傷害最小延長(zhǎng)了耗材的使用壽命。

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