IR+UV EXPO 2015 第二天演講由理化學(xué)研究所主任研究員平山先生進(jìn)行開場，半導(dǎo)體元件如LD與LED深紫外線的部分都是未來廠商積極開發(fā)的目標(biāo)。波長250～350nm半導(dǎo)體紫外LD與紫外LED的應(yīng)用備受期待，主要原因是紫外LED激發(fā)，而且驅(qū)動(dòng)電路非常單純，可以獲得高演色性白光照明。目前UV LED在220-350nm高效率化上面臨到的問題主要分為三點(diǎn): 第一、包括AlGaN 發(fā)光效率低-內(nèi)部量子效率<1%；第二、AlGaN 的P極化困難-電子注入效率<20%；光取出效率低約8%。未來將透過低轉(zhuǎn)位密度AlN 的開發(fā)、In 組成變調(diào)，將內(nèi)部量子提升到50~80%；多重量子障壁(MQB)的改善也可將電子注入效率提升到>80%的效率；光取出效率(EQE)更可透過p-GaN轉(zhuǎn)換到透明的AlGaN接觸層并加以圖形化，改善未來也可期望達(dá)到最高20%的程度。

DOWA 為日本UV LED 晶片、封裝廠商，于研討會(huì)中不僅發(fā)表280nm深紫外線LED產(chǎn)品，20mA可達(dá)到2mW，若實(shí)際運(yùn)用在微生物實(shí)驗(yàn)上，照射10秒左右，可有效看見效果，預(yù)計(jì)當(dāng)產(chǎn)品朝向260nm波長后，水殺菌或是手術(shù)器具表面殺菌效果應(yīng)用將有相當(dāng)市場。

金澤大學(xué)瀧健先生提到，目前UV樹脂固化LED應(yīng)用中朝向奈米壓印，利用模具家出深寬100nm，并透過UV樹脂固化后脫模，可達(dá)到奈米化圖案化襯底基板。對(duì)于LED產(chǎn)業(yè)市場持續(xù)朝向高效率LED的趨勢，是個(gè)相當(dāng)好的未來趨勢。 錼創(chuàng)科技(PlayNitride Inc.)提供整合式服務(wù)，采用光源包含白光雷射與UV LED產(chǎn)品。由于采用雷射光源，照射距離可高達(dá)600公尺，最大照度為25公尺下可達(dá)到560lux，未來將應(yīng)用在海上照明系統(tǒng)。

同時(shí)錼創(chuàng)科技(PlayNitride Inc.) 推出700W與1,900W UV LED 光源模組，分別采用氣冷式與水冷式系統(tǒng)，工作距離為70mm下，700W UV LED 光源模組的輻射照度(Typical Irradiance ) 可達(dá)到2W/cm2；而1,900W UV LED 光源模組的輻射照度(Typical Irradiance) 可達(dá)到5W/cm2。產(chǎn)品應(yīng)用包含UV 樹脂固化、油墨印刷。

EPITEX 擁有40年的業(yè)界經(jīng)驗(yàn)，紫外線與紅外線LED晶片(365nm-1,650nm)、封裝、模組產(chǎn)品開發(fā)與生產(chǎn)銷售。于展場上推出EDC與SMBB產(chǎn)品，使用陶瓷基板、矽膠(Silicon) /環(huán)氧樹脂(EPOXY)鏡片產(chǎn)品，發(fā)光角度可以客戶客制化從10°-60°。同時(shí)展出30W UV LED，使用2A、20V驅(qū)動(dòng)。UV 氣冷式系統(tǒng)產(chǎn)品采用395nm波長，產(chǎn)品強(qiáng)調(diào)光的均勻性，應(yīng)用于固化設(shè)備市場之中。

IR 產(chǎn)品850nm 產(chǎn)品可透過二次光學(xué)設(shè)計(jì)改變最后指向角度。由于光線更為均勻且強(qiáng)度更為集中，應(yīng)用與多項(xiàng)應(yīng)用之中。目前廣泛應(yīng)用于安全控制系統(tǒng)與資料采集系統(tǒng)之中。

UV LED市場發(fā)展持續(xù)成長的動(dòng)力，除了UV LED產(chǎn)品效率與技術(shù)提升、系統(tǒng)整合能力外，光固化起始劑中UV 膠廠商占有相當(dāng)重要的市場地位，主要廠商包或信越、Phoseon、Summers Optical 與PARQIT。PARQIT主要波段~565nm，不斷持續(xù)開發(fā)不同波長范圍的UV環(huán)氧樹脂膠(EXPOXY)以及高反射率材料，硬化收縮率朝向1%，成本優(yōu)勢為PARQIT主要產(chǎn)品優(yōu)勢。

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